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Pellicle的功能

 

概論
使用Pellicle最主要有兩種目的,一是增加晶片生產良率,另一是減少光罩於使用時之清潔和檢驗。Pellicle是一個薄膜展開在框架上,以保護光罩避免微塵的污染。今日Pellicle在大部分的IC製造者的製程及高解析投射成像系統中已經變成一個不可缺少的元件,包含諸如薄膜磁頭的製造,LCD平面顯示器及微電子系統等等之應用。

Pellicle的功能
在曝光製程中,任何在Pellicle上之微塵於晶圓上之成像將會失焦,因此僅會產生相當低影響的模糊陰影於晶圓的影像上。沒有Pellicle的保護,光罩將很容易污染上微塵並形成一個失真的影像在晶圓上,如此即產生一個瑕疵在晶片上。在未使用Pellicle的時期,光罩可能得需要每日清洗及檢驗,結果在清洗的過程中,光罩很容易被環境污染或破壞,造成良率低及高報廢成本。

Pellicle在光學投射系統的功能如圖一所示。

圖一: The Use of a Pellicle

一旦Pellicle被正確地貼覆於光罩上,光罩面將可免於被微塵粒子所污染。原先光罩的品質因此也得以保存,只要經過簡短的檢驗Pellicle及光罩表面即可確保光罩之品質。


Credit:
Yung-Tsai Yen, Ching-Bore Wang, and Richard Heuser.  "Chapter 19: Pellicles."
Handbook of Photomask Manufacturing Technology. Ed. Syed Rizvi. Boca Raton: CRC, 2005. 369-397. Print.
產品技術
光罩防塵護膜